晨报
年7月16日星期四农历五月二十六1、中科院报道了新型5nm激光光刻技术（以下资讯来源于腾讯网）近日，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员张子旸与国家纳米中心研究员刘前合作，在NanoLetters上发表了题为5nmNanogapElectrodesandArraysbyaSuper-resolutionLaserLithography（DOI:10./acs.nanolett.0c）的研究论文，报道了一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法。即：一种不需要使用EUV技术就可以制备出5nm特征线宽的激光光刻技术。2、面向信息领域激光技术发展趋势展望激光光源在工农业生产、通信、医疗、科研、国防等诸多领域具有极为广泛的应用。激光技术的迅速发展已渗入到信息技术领域的各个方面，作为电子信息技术的延伸和发展，取得了举世瞩目的成就，已成为当今信息科技发展的主要推动力。详细信息入口：